Resina especial para la eliminación de arsénico de aguas residuales de semiconductores LH-E-As

En el campo de la fabricación de semiconductores, el arsénico es un elemento impuro común. Su existencia no solo afectará gravemente el rendimiento y la fiabilidad de los chips, sino que también representará una amenaza para el entorno de producción y la salud humana. Al utilizar resina de eliminación de arsénico de alta eficiencia, el elemento arsénico en el agua puede ser eliminado de manera efectiva.

Como materia prima principal de la industria de semiconductores, el arsénico, un elemento metálico pesado tóxico, se descarga parcialmente en aguas residuales industriales como desecho durante el procesamiento y uso. Si estas aguas residuales se descargan directamente en el medio ambiente sin tratamiento, contaminarán el entorno natural y causarán daño a los animales, plantas y seres humanos.

Rendimiento y características de una resina especial para la eliminación de arsénico de aguas residuales de semiconductores LH-E-As

1. Adsorción altamente selectiva:

-Es altamente selectiva para el arsénico y puede adsorber preferentemente iones de arsénico en entornos acuáticos complejos. Incluso si hay muchos otros iones, puede asegurar el efecto de eliminación del arsénico. Su capacidad de adsorción selectiva puede alcanzar más del 95%, lo que puede separar efectivamente el arsénico de las aguas residuales y reducir en gran medida el contenido de arsénico de la calidad del agua tratada.

2. Capacidad de eliminación de arsénico eficiente:

-El contenido total de arsénico de la calidad del agua tratada con esta resina puede ser tan bajo como menos de 10 ppb, lo que puede cumplir con los estándares de la industria y escenarios de aplicación con requisitos extremadamente estrictos para el contenido de arsénico. Es un medio técnico ideal para mejorar el estándar de cuerpos de agua que contienen arsénico.

3. Buena estabilidad físico-química:

-En el proceso de tratamiento de aguas residuales de calidad compleja, como las aguas residuales de semiconductores, puede mantener la estabilidad de su propia estructura y rendimiento. Puede soportar los efectos de diferentes temperaturas, presiones y varios productos químicos que pueden estar presentes en las aguas residuales, asegurando un uso efectivo a largo plazo y reduciendo la frecuencia de reemplazo y los costos operativos causados por propiedades inestables de la resina.

4. Gran capacidad de adsorción:

-Tiene una alta capacidad de adsorción de arsénico, puede tratar una gran cantidad de aguas residuales que contienen arsénico, reducir el uso de resina y el espacio de equipo, y mejorar la eficiencia del tratamiento y los beneficios económicos.

5. Fácil de regenerar:

-La resina puede restaurar la capacidad de adsorción a través de métodos de regeneración específicos, lo que permite su reutilización, reduciendo los costos operativos y la generación de desechos. El proceso de regeneración es relativamente simple y fácil de operar, lo que puede garantizar la estabilidad del rendimiento de la resina durante el uso a largo plazo.

6. Amplios campos de aplicación:

-Además del tratamiento de aguas residuales de semiconductores, la resina LH-E-As también se utiliza ampliamente en la industria química, alimentos, tratamiento de agua potable y otros campos que tienen requisitos estrictos para el contenido de arsénico.

Flujo de proceso general de la resina LH-E-As para la eliminación de arsénico de aguas residuales de semiconductores:

1. Recolección y pretratamiento de aguas residuales:

-Recolección clasificada: Las aguas residuales que contienen arsénico generadas en el proceso de producción de semiconductores y otros tipos de aguas residuales se clasifican y recogen para un tratamiento posterior específico.

-Pretratamiento físico: Eliminar partículas sólidas más grandes, sólidos suspendidos y otras impurezas en las aguas residuales a través de rejillas, pantallas y otros equipos para evitar que causen obstrucciones o daños a los equipos de tratamiento posteriores y a las resinas. Luego se lleva a cabo la sedimentación, de modo que algunas partículas grandes de material se asienten naturalmente en el fondo del tanque de sedimentación, eliminando algunas partículas sólidas y sedimentos, y reduciendo la carga del tratamiento posterior.

2. Regulación de calidad del agua:

-Ajuste de pH: Se detecta el valor de pH de las aguas residuales y se ajusta a un rango adecuado utilizando ácidos o bases de acuerdo con las condiciones aplicables de la resina y las necesidades del tratamiento posterior. Por ejemplo, en algunos casos, puede ser necesario ajustar el pH a neutro o casi neutro para asegurar el efecto de adsorción y la estabilidad de la resina.

-Regulación de temperatura: Si la temperatura de las aguas residuales es demasiado alta o demasiado baja, puede afectar el rendimiento de adsorción y la vida útil de la resina. Por lo tanto, es necesario ajustar la temperatura de las aguas residuales a un rango de temperatura en el que la resina pueda funcionar correctamente mediante calentamiento o enfriamiento.

3. Adsorción de resina:

-Empaque de resina: La resina LH-E-As se empaca en equipos como columnas de intercambio iónico o torres de adsorción. Durante el proceso de llenado, es necesario asegurar que la resina esté llena de manera uniforme y compacta para evitar vacíos o acumulaciones desiguales de resina, asegurando que las aguas residuales puedan contactar completamente con la resina.

-Aguas residuales que pasan a través de la resina: Las aguas residuales pretratadas y ajustadas en calidad se pasan a través de una columna de intercambio iónico o columna de adsorción empacada con resina a una cierta tasa de flujo. Los iones de arsénico en las aguas residuales sufren una reacción de intercambio iónico con los grupos activos en la resina, y los iones de arsénico se adsorben en la resina, mientras que el agua tratada fluye fuera de la columna o torre.

4. Regeneración de resina:

-Selección de regenerante: Cuando la adsorción de la resina está saturada, la resina necesita ser regenerada. Los regenerantes comúnmente utilizados son soluciones de cloruro de sodio, etc. La concentración y dosis del regenerante deben seleccionarse y ajustarse de acuerdo con el tipo de resina, capacidad de adsorción y condiciones operativas reales.

-Proceso de regeneración: Se pasa una cierta concentración de regenerante a través de la resina saturada adsorbida en la dirección opuesta, de modo que los iones de arsénico adsorbidos en la resina se desorban, y al mismo tiempo se restaura la capacidad de adsorción de la resina. El líquido de regeneración que contiene arsénico producido durante el proceso de regeneración necesita ser recolectado y procesado adicionalmente para prevenir la contaminación secundaria.

5. Procesamiento posterior:

-Pruebas de aguas residuales: Probar las aguas residuales después del tratamiento con resina para asegurar que el contenido de arsénico en ellas cumpla con los estándares de descarga nacionales o locales. Si el contenido de arsénico aún excede el estándar, las aguas residuales necesitan ser tratadas o re-tratadas con adsorción de resina.

-Descarga estándar o reutilización: Si las aguas residuales son probadas como calificadas, pueden ser descargadas al medio ambiente o reutilizadas. Si se reutilizan en el proceso de producción de semiconductores, la calidad del agua necesita ser tratada y purificada adicionalmente de acuerdo con los requisitos del proceso de producción.